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薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。該設(shè)備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場(chǎng)均勻，結(jié)構(gòu)合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡(jiǎn)便快捷，是各大材料實(shí)驗(yàn)室的理想設(shè)備之一。

PECVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。

設(shè)備描述：CVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。各通道氣路的流量設(shè)定和狀態(tài)顯示都集中在一個(gè)7“的觸摸屏上，同時(shí)可以實(shí)時(shí)查看氣體流量曲線(xiàn)和數(shù)據(jù)。此款設(shè)備廣泛的用于材料界中CVD實(shí)驗(yàn)和各種材料的退火實(shí)驗(yàn)。

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化學(xué)氣相沉積設(shè)備CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長(zhǎng)、沉積，是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備技術(shù)參數(shù)